SGN氮化物研磨分散機(jī)，SGN納米氫氧化鎂研磨式分散機(jī)，是由膠體磨+高剪切分散機(jī)組成，形成一體化的設(shè)備，先研磨后分散，避免物料團(tuán)聚。
SGN氮化物研磨分散機(jī),氮化物研磨分散機(jī),氮化物分散機(jī),氮化物高速分散機(jī),氮化物納米分散機(jī),氮化物超細(xì)分散機(jī)
氮化物，氮化物是一類氮的化合物，其中氮顯-3價。包括金屬氮化物、非金屬氮化物和氨(NH3,氮負(fù)三價)，習(xí)慣上將氨作為一種特殊物質(zhì)，不列入氮化物中。金屬氮化物的熱穩(wěn)定性高，可用作高溫絕緣材料。非金屬氮化物的熱穩(wěn)定性也比較高，各具特殊性質(zhì)。六方氮化硼是優(yōu)良潤滑劑；而立方氮化硼硬度大，可用來制車刀、鉆頭等。
氮化物的應(yīng)用和氧化物的應(yīng)用都需要將粉體物料均勻的分散到液體介質(zhì)當(dāng)中，需要進(jìn)行研磨分散細(xì)化，SGN分散設(shè)備采用特殊的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，將研磨機(jī)和分散機(jī)合二為一，物料可以實現(xiàn)一步到位的研磨分散處理，氮化物漿料分散采用SGN研磨分散設(shè)備可以獲得均勻的漿料體系，并且物料粒徑一般可細(xì)化至DN90≤1μm。
SGN氮化物研磨分散機(jī)，將膠體磨和分散機(jī)一體化結(jié)合，先研磨后分散機(jī)，解決團(tuán)聚問題！
GMD2000系列研磨式分散設(shè)備是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
GMD2000系列研磨式分散機(jī)的特點：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
,氮化物分散機(jī),氮化物高速分散機(jī),氮化物納米分散機(jī),氮化物超細(xì)分散機(jī),SGN研磨式分散機(jī)專業(yè)于納米級物料的分散機(jī)，解決團(tuán)聚問題，還原原始納米粒徑，更高效！
以下為型號表：
| 研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
| 類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
| GMSD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 4 | DN25/DN15 |
| GMSD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
| GMSD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
| GMSD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
| GMSD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
| GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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